綁定的適用范圍
技術(shù)上來說表面平整可進(jìn)行金屬化處理的靶材都可以用我司銦焊綁定技術(shù)綁定銅背靶來提高濺射過程的散熱性、提高靶材利用率。
建議綁定的靶材:
ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材;
錫、銦等軟金屬靶;
靶材太薄、靶材太貴的情況等。
但下列情況綁定有弊端:
1.熔點(diǎn)低的靶材,像銦、硒等,金屬化的時(shí)候可能會(huì)變軟變形;
2.貴金屬靶材,金銀泥處理車間設(shè)備,一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料,建議墊一片銅片。
隨著黃金資源的開采緊張,民用、科技、、航天等用黃金量的增加,促使黃金價(jià)格節(jié)節(jié)上漲。電子廢料與黃金等成品之間的差價(jià)是比較固定的,金銀泥處理車間設(shè)備加工,而金銀做為,不論在任何時(shí)候總是增值的,因此銷售市場不存在問題。電子垃圾成為黃金新礦源,取之不絕,用之不盡。真正實(shí)現(xiàn)了環(huán)保的處理、循環(huán)再生利用??梢?,電子垃圾的問題并不是不能解決,只要能讓電子垃圾“從科技中來,到科技中去”,就可以變廢為寶,產(chǎn)生良好的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益。
在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中,金銀泥處理車間設(shè)備廠家,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大,過99.995%(4N5)純度的銅靶,或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求,但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
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