ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究
利用硅酸鹽復(fù)合電解液體系,微弧氧化電源,在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。
所用的工藝參數(shù)為:恒流控制,電流密度3 A/dm^2,微弧氧化電源指標,頻率500 Hz,終止電壓450 V。利用掃描電鏡對該膜層的形貌及結(jié)構(gòu)進行分析;對膜層的化學(xué)成分進行分析;采用極化曲線評價膜層的耐蝕性。
結(jié)果表明:所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。
微弧氧化技術(shù)特點
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜層為表面多孔(孔徑為幾微米)、內(nèi)部致密的陶瓷層。膜層硬度高(維氏硬度可由幾百至三千左右) 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副,摩擦率為4.9*10 -7mm3/Nm,小型微弧氧化電源價格,摩擦系數(shù)0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蝕性
耐中性鹽霧腐蝕(按)≥400h ,高頻微弧氧化電源,可做至≥800h膜層無明顯腐蝕。
微弧氧化工藝流程
1、預(yù)處理
預(yù)處理的原因是由于鋁、鐵等合金長時間放置在空氣中,表面易發(fā)生氧化,生成一層幾個微米的鈍化膜,同時,其表面又極易吸附周圍環(huán)境中的雜質(zhì),形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學(xué)性能,在微弧氧化處理前要對試樣表面進行預(yù)處理。
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