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鋼研納克江蘇檢測技術研究院有限公司
主營：直讀光譜儀 ICP光譜儀 ICPMS 碳硫分析儀 氧氮分析儀
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為了使 ICP-MS 質(zhì)譜儀能夠準確地分析樣品，需要進行適當?shù)臉悠非疤幚?，需要進行適當?shù)臉悠非疤幚?，以將待測元素從基體中電離出來，并將其轉化為易于電離的形式。常用的前處理方微波括濕法消解、干法灰化、微波消解等。
濕法消解是將樣品與酸或堿等試劑混合，在高溫下進行消解，以將待測元素從基體中分離出來。干法灰化是將樣品在高溫下進行灰化，以將待測元素從基體中分離出來。微波消解是將樣品在微波爐中進行消解，以將待測元素從基體中分離出來。
在進行樣品前處理時，需要注意以下幾點：
選擇適當?shù)那疤幚矸椒ǎ焊鶕?jù)樣品的性質(zhì)和待測元素的性質(zhì)，選擇適當?shù)那疤幚矸椒ā?/p>
控制樣品的量和濃度：樣品的量和濃度會影響 ICP-MS 質(zhì)譜儀的分析結果，因此需要控制樣品的量和濃度，以保證分析結果的準確性。
避免污染：在進行樣品前處理時，需要避免污染，以保證分析結果的準確性。
控制消解溫度和時間：消解溫度和時間會影響 ICP-MS 質(zhì)譜儀的分析結果，因此需要控制消解溫度和時間，以保證分析結果的準確性。
進行空白對照實驗：在進行樣品前處理時，需要進行空白對照實驗，以保證分析結果的準確性。
總之，為了使 ICP-MS 質(zhì)譜儀能夠準確地分析樣品，需要進行適當?shù)臉悠非疤幚?，以將待測元素從基體中分離出來，并將其轉化為易于電離的形式。在進行樣品前處理時，需要注意選擇適當?shù)那疤幚矸椒?、控制樣品的量和濃度、避免污染、控制消解溫度和時間、進行空白對照實驗等。
鋼研納克國產(chǎn)ICP-MS PlasmaMS 300
優(yōu)勢1——的四極桿電源驅(qū)動技術
DDS變頻技術
自動頻率匹配調(diào)諧，無需手動調(diào)電容，更安全
沒有機械電容部件，擁有的穩(wěn)定性、抗震動，無需經(jīng)常校準質(zhì)量軸
：《 一種用于四級桿質(zhì)譜儀的射頻電源》201610006009.2
PlasmaMS 300 優(yōu)勢2——的真空控制系統(tǒng)
的緩沖技術，國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀廠家，機械泵間斷運行，儀器待機功耗極低
解決高真空腔體被機械泵油氣污染問題，保證儀器長時間性能穩(wěn)定
受保護《一種電磁閥緩沖、無返油渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)》ZL2017 20926451.7
ICP-MS分析流程的建立
對于一種新基體的樣品來說，常規(guī)的分析路徑如下：
1. 酸化或溶解樣品
樣品一般需要行酸化溶解使目標元素溶解在液體中.
2. 選擇目標分析物和目標同位素
根據(jù)濃度范圍來選擇分析物和同位素。
3. 行掃描以便識別出存在的干擾
可以行半定量掃描，可以通過半定量掃描判斷大致存在哪些元素以及各個元素 的大致濃度范圍。
4. 選擇數(shù)據(jù)的采集模式以及校正曲線的類型
一般如果使用連續(xù)流的數(shù)據(jù)采集模式，會使用外標定量法。也有其他的數(shù)據(jù)評估方
法可以使用。
5. 選擇合適的內(nèi)標元素
內(nèi)標元素的使用可以校正由于時間或基體抑制效應引起的信號漂移。
6. 能進行基體匹配
將標樣的基體匹配到和您的樣品基體完全一致，可以將兩者之間的差異減小到小， 并且有助于得到更為準確的結果數(shù)據(jù)。
7. 進行質(zhì)量控制校正（QC check）
在分析過程中插入另一來源的標樣(2nd Source Standard)或者有證標準物質(zhì) (Certified Reference Material)，確保數(shù)據(jù)的完整性。
溫馨提示：以上是關于黑龍江國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀廠家「在線咨詢」的詳細介紹，產(chǎn)品由鋼研納克江蘇檢測技術研究院有限公司為您提供，如果您對鋼研納克江蘇檢測技術研究院有限公司產(chǎn)品信息感興趣可以聯(lián)系供應商或者讓供應商主動聯(lián)系您 ，您也可以查看更多與分析儀器相關的產(chǎn)品！
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第7年
