鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發(fā)經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,國產ICP光譜儀廠家,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。,上市公司,品質之選!
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Plasma2000型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”成果。采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集。儀器穩(wěn)定性好、檢測限低、快速分析、運行成本低。
鋼研納克Plasma2000 全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環(huán)境、衛(wèi)生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業(yè)、農業(yè)、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析??梢钥焖佟蚀_地檢測從微量到常量約70種元素。
鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點
1. 分析流程全自動化控制,實現軟件點火、氣路智能控制功能;
2. 輸出功率自動匹配調諧,功率參數程序設定;
3. 優(yōu)良的光學系統(tǒng),的控制系統(tǒng),保證峰位定位準確,信背比優(yōu)良;
4. 較小的基體效應;
5. 測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數量級;
6. 檢出限低,大多數元素的檢出限可達ppb級;
7. 良好的測量精度,穩(wěn)定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國家A等級標準(JJG768-2005);
8.
Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;
9. 光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調,可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;
11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長短期精度;
12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩(wěn)定;
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。
14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數據處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數據處理功能強大,提供了多種方法,如內標校正、IECS和QC監(jiān)測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。
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