超純金屬,指的化學雜質和物理雜質 (晶體缺陷) 含量的金屬。目前主要以化學雜質的含量為標準,金銀濕法處理技術,常以雜質在金屬中總含 量的百萬分之幾表示 。超純金屬是相對高純度的金屬,天津金銀濕法處理,一般指金屬純度達到純度9以上的金屬,物理雜質的概念才是有意義的。
材料的純度對其性能,金銀濕法處理廠,特別是微電子學、光電子學性能影響很大,現(xiàn)代高技術產業(yè)要求制備出超純金屬以利于制作器件。
濺射靶材ITO靶材的生產工藝 ITO靶材的生產工藝可以分為3種:熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下:
熱等靜壓法:ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結。熱等靜壓工藝制造產品密度高、物理機械性能好,但設備投入高,生產成本高,產品的缺氧率高。
各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來,濺射靶材及濺射技術的同步發(fā)展,金銀濕法處理設備價格,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線。
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),磁鐵在靶材料表面形成250~350高斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。
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