MS質(zhì)譜儀-鋼研納克-國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀價(jià)格

ICP-MS簡述

20世紀(jì)60年代末期，采用電感耦合等離子體源的原子光譜技術(shù)成為當(dāng)時(shí)應(yīng)用于微量元素分析的一項(xiàng)非常有前

途的技術(shù)（Greenfield等，國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀價(jià)格，1964； Wendt與Fassel， 1965）。但在分析超低含量物質(zhì)時(shí)由于背景光譜增強(qiáng)，光譜干擾

嚴(yán)重使分析靈敏度和準(zhǔn)確度達(dá)不到要求。只有質(zhì)譜法能同時(shí)滿足譜圖簡單、分辨率適中和較低檢出限的要求。因此， ICP-AES所具有的樣品易于引入、分析速度快、多元素同時(shí)分析的特點(diǎn)與質(zhì)譜儀的聯(lián)用成為科學(xué)和商業(yè)上研究的

熱點(diǎn)。1970年許多公司深入的參與了該技術(shù)的研究，國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀廠家，CP作為發(fā)射源使等離子體中分析物有效電離能夠滿足新一代

儀器源的要求。同時(shí)也注意到惰性氣體在大氣壓下的電等離子體可能是一個(gè)很好的離子源。因此人們采用四極桿 質(zhì)量分析器和通道式離子檢測(cè)器開展可行性研究。Gral在70年代中期首先報(bào)道了用等離子體作為離子源的質(zhì)譜分 析法。1981年Gray在Surrey實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)完成了 ICP源上所預(yù)期性能的設(shè)備，獲得了張ICP譜圖。1983年英 國VG公司與加拿***ciex公司推出商業(yè)化的ICP-MS，1984年在用戶實(shí)驗(yàn)室才安裝ICP-MS。在此以后 ICP-MS在化學(xué)分析中廣泛應(yīng)用開來。

ICP-MS質(zhì)譜儀如何有效識(shí)別和消除

這些干擾要有效識(shí)別和消除 ICP-MS 質(zhì)譜儀中的干擾，可以采取以下一些方法

干擾校正方程：通過建立干擾校正方程，利用已知的干擾元素和目標(biāo)元素的關(guān)系，對(duì)干擾進(jìn)行校正。

內(nèi)標(biāo)法：使用內(nèi)標(biāo)元素來監(jiān)測(cè)和校正信號(hào)的變化，以補(bǔ)償基體效應(yīng)和其他干擾。

碰撞/反應(yīng)池技術(shù)：利用碰撞/反應(yīng)池來去除或降低多原子離子、分子離子等干擾。

選擇合適的質(zhì)量數(shù)：避免選擇受到嚴(yán)重干擾的質(zhì)量數(shù)，或者采用高分辨率質(zhì)譜儀來區(qū)分干擾和目標(biāo)離子。

優(yōu)化儀器參數(shù)：調(diào)整射頻功率、離子源氣體流量等參數(shù)，國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀，以減少干擾的影響。

樣品前處理：適當(dāng)?shù)臉悠非疤幚矸椒梢匀コ蓴_物質(zhì)，如稀釋、萃取、凈化等。

同位素比值測(cè)量：通過測(cè)量同位素比值，國產(chǎn)ICP-MS質(zhì)譜儀廠家，可以消除一些干擾的影響，并提供的分析結(jié)果。

質(zhì)量篩選：利用質(zhì)量篩選技術(shù)，只監(jiān)測(cè)特定質(zhì)量數(shù)范圍內(nèi)的離子，減少干擾的干擾。

數(shù)據(jù)處理方法：采用合適的數(shù)據(jù)處理軟件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，來校正干擾。

標(biāo)準(zhǔn)加入法：通過添加已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)到樣品中，校正基體效應(yīng)和干擾。

識(shí)別和消除干擾需要綜合考慮多種方法，并根據(jù)具體的分析需求和樣品特點(diǎn)選擇合適的策略。同時(shí)，定期進(jìn)行質(zhì)量控制和方法驗(yàn)證也是確保干擾得到有效校正的重要步驟。

ICP-MS理想的樣品制備應(yīng)該達(dá)到以下幾條標(biāo)準(zhǔn)

? 將固體和液體樣品轉(zhuǎn)換為澄清溶液

? 完全消解了所有的有機(jī)物質(zhì)

? 保留所有目標(biāo)檢測(cè)元素，并且元素濃度在儀器的檢測(cè)范圍內(nèi)

? 未引入新的干擾離子

? 將樣品的粘度和固體物含量調(diào)節(jié)到適合分析的范圍

? 確保所有的樣品容器都進(jìn)行過酸液浸泡的前處理，以保證的檢出限

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