LDI機
LDI曝光速度的瓶頸因素包括:數(shù)據(jù)的儲存與傳送、鐳射能量、切換速度、多邊型的制作速度、光阻的感光度、鐳射頭移動速度、電路板傳送作業(yè)模式等。
以基本的影響因素而言,有三個獨立的因子會影響曝光速率:
1、能量密度 2、數(shù)據(jù)調(diào)變的速度 3、機械機構(gòu)速度
光阻必須要有一定量的能量送到表面才能產(chǎn)生適當?shù)钠毓猓呙舳鹊墓庾栊枰哪芰肯鄬^低。因為總能量等于功率乘上時間,高敏度的感光膜在同樣的功率下所需的曝光時間就比較短。而曝光系統(tǒng)的功能輸出,金華pcb制版機,主要來自于系統(tǒng)的光源設(shè)計,所以這是能量與時間的關(guān)系與解析度無關(guān)。
直接成像
直接成像(Direct Imaging,縮寫為DI),是將計算機上的版面數(shù)據(jù)直接在印刷機上制版印刷的一種新印刷方式。
迄今為止,較大幅面的DI印刷機是來自Komori的S40D DI印刷機,B1幅面,pcb雙面制版機,它使用Creo公司的Square Spot成像技術(shù)和來自Agfa公司的印版。MAN Roland公司在DI印刷市場的作用也很重大,他們的DICOweb與以往的輪轉(zhuǎn)膠印技術(shù)完全不同,它不使用印版,而是在可多次成像的滾筒上直接成像。
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曝光
曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機工作臺上,放好底片,通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學(xué)成像方法的基本過程與主要特征。曝光,曝光模式即計算機采用自然光源的模式,pcb曝光制版機,通常分為多種,手動曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關(guān),也就是說應(yīng)該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時間(快門速度決定),通光面積(光圈大?。Q定。
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