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日照微弧技術(shù)有限公司

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日照微弧養(yǎng)護(hù)技術(shù)(圖)-等離子微弧氧化技術(shù)-微弧氧化技術(shù)

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微弧氧化技術(shù)工藝特點(diǎn)

微弧氧化從普通陽(yáng)極氧化發(fā)展而來(lái),其裝置包括專(zhuān)門(mén)用的高壓電源、氧化槽、冷卻系統(tǒng)和攪拌系統(tǒng)。氧化液大多采用堿性溶液,對(duì)環(huán)境污染小。溶液溫度以室溫為宜,溫度變化范圍較寬。溶液溫度對(duì)微弧氧化的影響比陽(yáng)極氧化小得多,因?yàn)槲⒒^(qū)燒結(jié)溫度達(dá)幾千度,遠(yuǎn)高于槽溫,等離子微弧氧化技術(shù),而陽(yáng)極氧化要求溶液溫度較低,微弧氧化技術(shù)服務(wù),特別是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化對(duì)溶液溫度限制更為嚴(yán)格。微弧氧化工件的形狀可以較復(fù)雜,部分內(nèi)表面也可處理。此外,微弧氧化工藝流程比陽(yáng)極氧化簡(jiǎn)單得多,也是此技術(shù)工藝特點(diǎn)之一。

微弧氧化膜層生長(zhǎng)時(shí),首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一層陽(yáng)極氧化膜。當(dāng)增大反應(yīng)電壓時(shí),膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加,厚度會(huì)隨之增加。但是當(dāng)反應(yīng)電壓增加到一定程度時(shí),膜層會(huì)由于不能承受該工作電壓發(fā)生放電再擊穿,產(chǎn)生等離子放電。反應(yīng)的高溫將使膜層發(fā)生熔融,基體元素由于處在富氧環(huán)境中,將形成氧化物。同時(shí)由于是在電解液中,熔融物將瞬間冷凝,微弧氧化技術(shù),在基體表面生成一層陶瓷。陶瓷膜的生成,將導(dǎo)致工作電壓進(jìn)一步升高,膜層再次被擊穿,膜層厚度進(jìn)一步增加。周而復(fù)始,膜層得以生長(zhǎng)。

日照微弧技術(shù)有限公司秉承“真誠(chéng)服務(wù)、信譽(yù)為先”的經(jīng)營(yíng)理念,非常注重產(chǎn)品質(zhì)量,贏得了廣大客戶(hù)的一致好評(píng),竭誠(chéng)歡迎新老客戶(hù)前來(lái)洽談、惠顧!

什么是微弧氧化?微弧氧化膜層生長(zhǎng)過(guò)程是怎樣的?

微弧氧化技術(shù)(MAO)是在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù),是在含有特定離子的電解液中,通過(guò)弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用,鈦合金微弧氧化技術(shù),在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù),膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點(diǎn)。

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