ICP-MS 電感耦合等離子體質(zhì)譜法是將被測物質(zhì)用電感耦合等離子體離子化后,按離子的質(zhì)荷比分離,測量各種離子譜峰的強度的一種分析方法。自1983 年臺商品化生產(chǎn)以來,就在不斷改善中得到廣泛應(yīng)用ICP-MS 技術(shù)的分析能力可以取代傳統(tǒng)的無機分析技術(shù)如電感耦合等離子體光譜技術(shù)、石墨爐原子吸收進行定性、半定量、定量分析及同位素比值的準確測量等。
鋼研納克PlasmaMS300電感耦合等離子體質(zhì)譜儀icp-ms是將被測物質(zhì)用電感耦合等離子體離子化后,ICPMS質(zhì)譜儀廠家,按離子的質(zhì)荷比分離,測量各種離子
譜峰的強度的一種分析方法。是20 世紀80
年代發(fā)展起來的新的分析測試技術(shù)。它以的接口技術(shù)將ICP-MS 的
高溫(7000 K)電離特性與四極桿質(zhì)譜計的靈敏快速掃描的優(yōu)點相結(jié)合而形成一種新型的元素和同位素分析技術(shù),
可分析幾乎地球上所有元素。具有檢出限低,線性動態(tài)范圍寬,譜線簡單,干擾少,分析精度高,速度快,多元
素同時分析,檢測模式靈活等優(yōu)點。
空白樣品檢測結(jié)果異??赡苁怯啥喾N原因引起的。除了之前提到的一些因素,還可能包括以下原因:
氣源問題:氬氣等氣源的純度不夠或存在雜質(zhì),可能影響空白樣品的檢測。
樣品容器污染:用于存放空白樣品的容器可能受到污染,導致空白樣品結(jié)果異常。
靜電干擾:靜電可能對儀器的檢測產(chǎn)生干擾,尤其在干燥環(huán)境中更容易出現(xiàn)。
參數(shù)設(shè)置不當:儀器的某些參數(shù)設(shè)置不合適,如霧化氣流量、等離子體功率等,可能影響空白樣品的檢測。
軟件問題:儀器的軟件可能存在故障或錯誤,導致數(shù)據(jù)處理異常。
外部干擾源:附近的電磁輻射、振動等外部干擾源可能影響儀器的正常工作。
要解決這些問題,可以嘗試以下方法:
檢查和優(yōu)化氣源,確保氣源的純度和穩(wěn)定性。
清洗或更換樣品容器,避免污染。
控制實驗室的濕度,減少靜電干擾的可能性。
仔細檢查和調(diào)整儀器的參數(shù)設(shè)置,根據(jù)實際情況進行優(yōu)化。
檢查軟件是否需要更新或重新安裝,確保軟件正常運行。
排除外部干擾源,如移動干擾源或?qū)x器進行屏蔽防護。
鋼研納克電感耦合等離子體質(zhì)譜儀PlasmaMS 300 儀器特點
1. 石英、耐氫1氟酸等豐富多樣的進樣系統(tǒng);分立式矩管,便于拆卸維護;可選配半導體制冷進樣裝置和自動進樣系統(tǒng)。
2. 27.12MHz全固態(tài)RF發(fā)生器,實現(xiàn)極高的穩(wěn)定性;自動匹配速度快,保證了點火成功率
3. 雙錐接口,可在真空狀態(tài)下直接拆卸維護
4. 大范圍準確可調(diào)的三維平臺,實現(xiàn)矩管全自動定位和校準
5. 雙離軸離子傳輸(偏轉(zhuǎn))系統(tǒng),去除不帶電粒子,保證低噪聲和高靈敏度
6. He氣碰撞池匹配性能高質(zhì)量流量控制器,有效去除多離子干擾
7. 高通量的長四極桿,質(zhì)量范圍2-265amu,分辨率<0.8amu;應(yīng)用的DDS技術(shù),實現(xiàn)自動頻率匹配,保證離子有效篩選
8. 雙模式檢測器,脈沖計數(shù)和模擬計數(shù)檢測,高達9個數(shù)量級線性范圍
9.兩只獨立分子泵組合而成的性能高雙渦輪分子泵真空系統(tǒng)和全自動監(jiān)控系統(tǒng),確保穩(wěn)定性和靈敏度
10. 無處不在的屏蔽處理,保護實驗人員安全和儀器穩(wěn)定
11. 通過多項可靠性實驗的考驗,保證儀器運行和穩(wěn)定
12. 人性化的工作軟件
PlasmaMS 300 鋼研納克
中文軟件界面,符合中國人操作習慣,用戶靈活保存檢測方法
全方面的狀態(tài)監(jiān)控輸出,錯誤主動提示,問題一目了然,極大方便日常維護
帶有LIMS接口,滿足第三方實驗室的需求
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