高純氬氣的制備方法
高純氬氣的制備方法主要包括深冷分餾法、合金吸氣法和催化脫氧分子篩脫水結(jié)合合金吸氣法。
深冷分餾法通過多級(jí)冷卻和分離技術(shù),從空氣中提取高純氬氣,適用于大規(guī)模生產(chǎn)。
合金吸氣法利用吸氣劑吸收雜質(zhì),適用于高純度要求的深度凈化。
催化脫氧分子篩脫水結(jié)合合金吸氣法則需要進(jìn)行初級(jí)凈化,再用吸氣劑深度凈化,適用于不同純度等級(jí)的氬氣制備。
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高純氬氣在哪些高科技領(lǐng)域有重要應(yīng)用?
高純氬氣在諸多高科技領(lǐng)域發(fā)揮關(guān)鍵作用。
在半導(dǎo)體制造中,它是一種重要的保護(hù)氣體。在芯片制造的光刻、刻蝕等工藝過程中,高純氬氣能防止芯片材料與氧氣等發(fā)生反應(yīng),確保高精度加工。例如,在12英寸晶圓的制造過程中,氬氣可提供穩(wěn)定的加工環(huán)境。
在光纖制造領(lǐng)域,高純氬氣用于光纖拉絲過程。通過營造無氧環(huán)境,避免光纖材料氧化,提高光纖的質(zhì)量和性能,保障光信號(hào)的快速傳輸。同時(shí),在一些材料的真空鍍膜工藝中,高純氬氣作為載氣,幫助材料均勻地沉積在基底上,用于制造性能好的光學(xué)薄膜等。
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高純氬氣的特性
高純氬氣是一種無色、無味、無毒的惰性氣體,具有化學(xué)性質(zhì)極不活潑的特點(diǎn)。其相對密度和液體密度均較高,沸點(diǎn)為-185.9℃,熔點(diǎn)為-189.2℃。
高純氬氣不易與其他物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),穩(wěn)定性好,因此被廣泛應(yīng)用于需要惰性氣體保護(hù)的場合,如半導(dǎo)體生產(chǎn)、焊接、冶金等領(lǐng)域。同時(shí),高純氬氣還具有高熱導(dǎo)率和低表面張力等物理特性。
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