DI直接成像曝光機
1、技術優(yōu)勢:
所有MIVA 位圖影像系統(tǒng)使用的曝光程序,使用率半導體光源系統(tǒng)和高解析度的光學模組,此系統(tǒng)將高清晰度的影像轉移至感光基材,根據(jù)產品需求解析度可從3000DPI 到128000DPI,光學頭在板材上方連續(xù)移動曝光,高解析度的線性電機和光學尺可實現(xiàn)的位置控制。
2、耗電低:
待機時只需消耗350W,曝光時消耗2.5KW,這其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗,故機臺本身十分節(jié)能。機臺可使用單相電源。
曬版機(曝光機)的工作原理及操作步驟
曬版機是用于制作印版的一種接觸曝光成像設備。
操作要求:
(1)在工作過程中印版應保持與玻璃表面的完全接觸,納米激光器,真空系統(tǒng)的真空調節(jié)的較小范圍為0-86.6kPa(0-650mmHg);關閉曬版機電源后5分鐘曬版機的真空度不得降低20kPa(150mmHg)。檢測方法如下:將與機器規(guī)格相對應的較大尺寸的印版放在曬版機內,閉合真空系統(tǒng),開啟真空泵,用秒表測量真空系統(tǒng)中真空表所顯示的真空度達到80kPa(650mmHg)所需時間;然后關閉電源,用秒表計時5分鐘,觀察真空表所示的真空系統(tǒng)的密封性能。
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