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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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人類社會的存在，科學技術的進步和發(fā)展，已成為21世紀首要的戰(zhàn)略儲備物資，且與各國的政治經(jīng)濟和社會發(fā)展有著息息相關的緊密聯(lián)系，在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應用領域中，高純材料、合金、各種深加工的制品（半成品）及化學制品，已被廣泛應用到冶金鋼鐵，石油化工，有機化工，酸霧吸收塔廠，化工，電子電器，汽車制造，光學玻璃，玻璃纖維。
現(xiàn)在行業(yè)中通用的測量方法基本是手動進行的，其劣勢在于手動測試受人為因素 (用力的大小，接觸面積等)影響較大，酸霧吸收塔廠家，手動測試無法實現(xiàn)同一被測物目標的多次數(shù)值的重現(xiàn)，手動測試時只能達到每次測試出來一個數(shù)值，無法做產(chǎn)品的分析。另外一般的電阻測量儀器受溫度和濕度的影響較大，無法測量，導致不能得出的數(shù)值，從而不能保證廣品的品質(zhì)。
在所有應用產(chǎn)業(yè)中，半導體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，淮南酸霧吸收塔，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。靶材的結晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
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第9年
