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真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機(jī)中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達(dá)到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程
真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉(zhuǎn)移法和直接蒸鍍法兩種。
（1） 轉(zhuǎn)移法是借助載體膜將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法基礎(chǔ)上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，彩色鍍鋁膜地址，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。
（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機(jī)，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時，需要在鍍鋁前進(jìn)行表面涂布。另，在蒸鍍過程中要求基材的揮發(fā)物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，彩色鍍鋁膜批發(fā)，但紙張的質(zhì)量要求高，并對紙的定量有一定的限度；也就是說直接蒸鍍法對基材的適用范圍有較大的局限性。真空鍍鋁對被鍍基材的要求：
（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，彩色鍍鋁膜電話，即基材應(yīng)具有一定的強(qiáng)度和表面平滑度；挺度和摩擦系數(shù)適當(dāng)。
（2） 耐熱性好，基材經(jīng)得起蒸發(fā)源的熱輻射和蒸發(fā)物的冷凝潛熱，基材含水量低于0.1%。。
（3）薄膜基材產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)要少；表面潤濕張力大于38dyn/cm。
（4）對鍍鋁層的粘接性良好；對于非極性材料，真空鍍鋁前應(yīng)進(jìn)行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。
鍍鋁膜是近幾年出現(xiàn)的新材料，鍍鋁膜既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬特性，從一定程度上替代了鋁箔。
鍍鋁膜復(fù)合后產(chǎn)生明顯的白色或灰點(diǎn)，這些斑點(diǎn)在滿版油墨印刷復(fù)合過程中為常見：
鍍鋁膜本身質(zhì)量較差，鍍層容易剝離，油墨及膠粘劑在其表面產(chǎn)生的粘接力高低不一，在斑點(diǎn)產(chǎn)生處油墨層與鍍層粘接力較低，層間緊密度差；沒有斑點(diǎn)處鍍層已明顯轉(zhuǎn)移，層間緊密度好。通過鍍鋁層反光強(qiáng)弱，形成白色或灰點(diǎn)，彩色鍍鋁膜，其斑點(diǎn)深淺程度與油墨遮蓋力有很大關(guān)系。遮蓋力好，斑點(diǎn)淺；反之，斑點(diǎn)嚴(yán)重。采用遮蓋力較好的油墨是清除斑點(diǎn)根本的方法。
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